193nm Glan-Taylor-polarisator använder α-BBO dubbelbrytande kristaller separerade av ett luftgap för att eliminera absorptionsproblem från vidhäftande material i det djupa UV-området. Enskiktade MgF₂ antireflexbeläggningar säkerställer hög transmission vid 193 nm samtidigt som de bibehåller utmärkta släckprestanda. Konstruerad med en hög laserskadetröskel är den idealisk för högprecisionspolarisationskontroll i tillämpningar som ArF-excimerlaserlitografi och djup UV-laserbearbetning.
|
Drag: Luftavstånd Nära Brewsters Angle Cutting Hög polarisationsrenhet Djup ultraviolett transmission |
 |
Artikelnummer :
GTP-193Produktens ursprung :
FuZhouSpecifikationer:
| Material: | Djupt ultravioletta material |
| Våglängdsområde: | 193,368 nm |
| Utrotningskvot: | <1x10-4 |
| Parallellism: | <1 båge min |
| Ytkvalitet: | 20/10 |
| Strålavvikelse: | < 3 bågminuter |
| Vågformsdistorsion: | 1/4@632.8nm |
| Skadegräns: | >200 MW/cm²2 |
193nm Glan Taylor-polarisator
| Artikelnummer | Våglängdsintervall (nm) | Utrotningskvot | Vinkelfält (°) | Kaliumförbrukning (mm) | Ytterdiameter fd(mm) | L ±0,1 (mm) |
| GTP4006 | 193,368 | <5x10-6 | >6,0 | 5.0 | 25,4 | 13.0 |
| GTP4008 | 6,5 | 25,4 | 14.0 | |||
| GTP4010 | 8.0 | 25,4 | 16,0 | |||
| GTP4013 | 10.0 | 25,4 | 20,0 | |||
| GTP4015 | 12.0 | 30,0 | 23,0 | |||
| GTP4020 | 18,0 | 38,1 | 28,0 | |||
| GTP4025 | 22,0 | 50,8 | 33,0 |
De tekniska fördelarna med 193nm Glan-Taylor-polarisator：
193 nm Glan-Taylor-polarisatorn är tillverkad av material som är kompatibla med djup UV-strålning, med extremt låg absorption och utmärkt transmittans vid 193 nm, vilket bibehåller polarisationsriktningen exakt. Dess luftgapdesign undviker absorptionsstörningar från lim i djup UV, i kombination med dedikerade antireflexbeläggningar för att minska reflektionsförlust, vilket passar för scenarier med högpresterande djup UV-lasrar.
193nm Glan-Taylor-polarisator använder α-BBO dubbelbrytande kristaller separerade av ett luftgap för att eliminera absorptionsproblem från vidhäftande material i det djupa UV-området. Enskiktade MgF₂ antireflexbeläggningar säkerställer hög transmission vid 193 nm samtidigt som de bibehåller utmärkta släckprestanda. Konstruerad med en hög laserskadetröskel är den idealisk för högprecisionspolarisationskontroll i tillämpningar som ArF-excimerlaserlitografi och djup UV-laserbearbetning. Drag: Luftavstånd Nära Brewsters Angle Cutting Hög polarisationsrenhet Djup ultraviolett transmission
LÄS MER
193nm Glan-laserprisma använder EUV-kristall med hög optisk enhetlighet, med utmärkt polarisationsstabilitet i smal bandbredd. Precisionskapsling minskar optisk vägavvikelse, lämplig för högprecisions djup-UV-laserdetektering. Drag:LuftavståndNära Brewsters Angle CuttingHög polarisationsrenhetMonterad med flyktfönsterLämplig för högeffektsapplikationer
LÄS MER
Rochon-polarisator separerar den infallande strålen i vanlig stråle och extraordinär stråle som Wollaston-polarisatorn, men extraordinär stråle transmitteras rakt igenom, medan vanlig stråle transmitteras med en avvikelsevinkel. Drag: Optiskt kontaktad Hög polarisationsrenhet Lämplig för applikationer med låg eller hög effekt
LÄS MER
193 nm Låg ordning Vågplatta, en djupt ultraviolett polarisationsenhet, justerar exakt polarisationstillståndet för infallande ljus. Den används i DUV-system som litografi och laserforskning och är tillverkad av 193 nm strålningsbeständiga material för stabilitet och noggrannhet. Drag: Tjocklek: 0,1–0,5 mm Hög skadetröskel
LÄS MER
193 nm luftavståndsvågplatta med noll ordning, utan självhäftande lager, har stark strukturell stabilitet och anti-aging-prestanda. Kvarts motstår djup UV-korrosion, lämpar sig för kontinuerlig högeffektslaserdrift och har konsekvent polarisationskontroll. Drag:LuftavståndTjocklek 0,3~1,5 mmHögt gränsvärde för skadorAR-belagd och monterad
LÄS MER
VUV:s specialanpassade polarisatorer för laser arbetar med en våglängd på 193,368 nm och täcker ett våglängdsområde på 160–250 nm. Denna serie inkluderar VUV Thin Crystal Polarizer, Rochon Polarizer, Glan-Polarizer, VUV Wide Field Angle Waveplate, etc. Dessa produkter är lämpliga för olika laserapplikationsscenarier. Med sin höga precision och tillförlitlighet tillhandahåller de professionella polarisationslösningar för vakuum-ultraviolett laserfält. Oavsett om det är för vetenskaplig forskning eller industriella tillämpningar kan de uppfylla kundernas strikta krav på optiska komponenter. Kunder i behov kan kontakta oss.
LÄS MER
